- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
Détention brevets de la classe G03F 7/09
Brevets de cette classe: 1491
Historique des publications depuis 10 ans
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133
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80
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31
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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---|---|---|
FUJIFILM Corporation | 27102 |
153 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
121 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
110 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1822 |
89 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
58 |
JSR Corporation | 2476 |
47 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
46 |
Merck Patent GmbH | 5909 |
37 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 6671 |
37 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
31 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
29 |
Cheil Industries Inc. | 944 |
20 |
Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. | 546 |
20 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
19 |
AZ Electronic Materials USA Corp. | 74 |
18 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
17 |
Toray Industries, Inc. | 6652 |
17 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
17 |
AZ Electronic Materials USA Corp. | 48 |
17 |
Nissan Chemical Corporation | 1725 |
16 |
Autres propriétaires | 572 |